日志
- 分享 2011-10-25
- 真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都 ...
- 分享 2011-10-25
- 光学镀膜材料 （纯度： 99.9%-99.9999% ） 1. 高纯氧化物： 一氧化硅 、 SiO ， 二氧化铪 、 HfO2 ，二硼化铪， 氯氧化铪 ，二氧化锆、 ZrO2 ，二氧化钛、 TiO2 ，一氧化钛、 TiO ，二氧化硅、 SiO2 ，三氧化二钛、 Ti2O3 ， 五氧化三钛 、 Ti3O5 ...
- 分享 2011-10-25
- 溅射靶材 （纯度： 99.9%-99.999% ） 1. 金属靶材 ： 1. 金属靶材： 镍靶、 Ni 、钛靶、 Ti 、锌靶、 Zn 、铬靶、 Cr 、镁靶、 Mg 、铌靶、 Nb 、锡靶、 Sn 、铝靶、 Al 、铟靶、 In 、铁靶、 Fe 、锆铝靶、 ZrAl 、钛铝靶、 TiAl 、锆靶、 Zr 、铝硅靶、 ...
- 分享 2011-10-24
- 真空是指低于 1 标准大气压的气态空间，建立这样一个气态环境，并在该环境中工艺制作、测量分析和科学试验等工作所需的理论及技术称之谓 “ 真空科学与技术 ” 。为保证真空科学与技术的发展和交流。准确、合理地选择和使用有关的计量单位，并实现国际间单位制的统一，是一个十分重要的方面。 ...
- 分享 真空常用计算公式
- 真空常用计算公式 1 、玻义尔定律 体积 V ，压强 P ， P·V ＝常数 一定质量的气体，当温度不变时，气体的压强与气体的体积成反比。 即 P1/P2 ＝ V2/V1 2 、盖 · 吕萨克定律 当压强 P 不变时，一定质量的气体，其体积 V 与绝对温度 T ...
- 分享 相对真空度=绝对真空度(绝对压力)-测量地点的气压
- 相对真空度 = 绝对真空度 ( 绝对压力 )- 测量地点的气压 一个标准大气压 1atm=101325Pa=101.325kPa=0.101325MPa≈0.1MPa 单圈弹簧管式压力表（比如 Y—100 ）测量的是相对压力，指针是顺时针变化，起始点 0 表示一个大气压 0.1MPa ，比如指示为 1 MPa ，表示比大气压高 1 MPa ，绝对压力应是 1.1MPa ...
- 分享 薄膜设计软件
- TFCalc 薄膜设计软件 功能强大 ★ TFCalc 是 一个光学薄膜设计和分析的通用工具，这里有按顺序排列介绍了 TFC 的功能：吸收、 有效镀膜 、 角度匹配 、 双锥形的穿透 、 黑体光源 、 色彩优化 、 ...
- 分享 TFC膜系设计实例教程
- TFC 膜系实例设计步骤（首先以 AR 膜三层为例介绍） 1． 首选镀膜材料： AL2O3 ZRO2 MGF2 2． AR 膜技术要求： 400------700 R 〈 1 3． 运行 TFC 软件 ( 如图 1) ，选择 ...
